原子层沉积技术研究及其应用进展
《微纳电子技术》2012年11期 仇洪波;刘邦武;夏洋;李惠琪;陈波;李超波;万军;李勇 下载（1448）被引（13）
相关文章推荐
- 原子层沉积技术发展概况
- 主要介绍了原子层沉积技术的历史背景、原理(包括两种自限制的反应机制、前驱体的要求与分类)以及原子层沉积本身作为一种涂层制备技术的特征和优势。重点叙述了近年来原子层...[详细]
- 《真空》2018年04期
- 原子层沉积技术生长单质钨薄...
- 采用热型原子层沉积(ALD)技术在单晶硅基底上成功制备了单质钨薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、掠入射X射线衍射仪(GIXRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、四探针测试仪对...[详细]
- 《半导体技术》2022年09期
- 原子层沉积制备非晶氧化铝薄...
- 采用原子层沉积(ALD)技术在200℃下制备了不同厚度的氧化铝薄膜，并利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散光谱仪(EDS)和原子力显微镜(AFM),对薄膜的晶相、组...[详细]
- 《微纳电子技术》2022年11期
- 纳米金刚石表面准原子层沉积...
- 采用准原子层沉积(Quasi Atomic Layer Deposition-QALD)技术在纳米金刚石表面沉积硅镀层。通过硅烷气体在纳米金刚石颗粒表面饱和吸附,然后原位热解的分步反应实现了硅镀层...[详细]
- 《超硬材料工程》2007年06期
- 利用原子层沉积技术实现有机...
- 有机电致发光器件（Organic light emitting diode,OLED）具有轻薄、便于携带、自发光、能耗低、亮度更大、柔性显示等特点，可以增加显示产品的附加值，因此被科学和产业界...[详细]
- 《发光学报》2022年08期
- 原子层沉积技术在含能材料表...
- 介绍了原子层沉积技术的原理和特点,并对比传统物理及化学气相沉积薄膜制备工艺,总结了原子层沉积技术在含能材料合成及表面修饰改性方面所具有的薄膜厚度精确可控、工作温度...[详细]
- 《火炸药学报》2019年05期
- 原子层沉积技术及应用
- 简单阐述了原子层沉积技术的发展背景,然后概括了原子层沉积技术原理、技术特征和优势,并对化学吸附和顺次反应两种自限制机制进行了描述和比较。着重介绍了原子层沉积技术在...[详细]
- 《表面技术》2018年09期
- 原子层沉积技术及其在粉体材...
- 原子层沉积技术因其具有精确的沉积厚度控制、良好的保形性、均匀性等特点,已经成为一项重要的薄膜沉积技术。而粉体材料作为材料的一种重要的表现形式,其改性技术对整个材料...[详细]
- 《化工新型材料》2016年05期
- 不同温度对原子层沉积掺铝氧...
- 采用热原子层沉积(ALD)方法,在固定氧化锌与氧化铝沉积比例的情况下,研究了不同温度下在玻璃衬底上沉积的掺铝氧化锌薄膜性能的变化,特别是"ALD窗口"温度的影响。通过计算薄...[详细]
- 《真空科学与技术学报》2017年12期
- 原子层沉积纳米钝化层薄膜厚...
- 原子层沉积无机纳米薄膜技术广泛应用于军民领域。本文通过在原子层沉积系统加装原位石英晶体微天平测量系统,通过原位石英晶体微天平研究原子层沉积无机薄膜生长过程并进行...[详细]
- 《宇航计测技术》2019年03期
- 原子层沉积技术制备金属材料...
- 原子层沉积(ALD)技术是一种三维共形沉积金属薄膜或金属纳米结构的有效手段。简要介绍了ALD技术的基本原理和特点,着重阐述和比较了ALD生长贵金属、过渡金属和活泼金属的不同...[详细]
- 《微纳电子技术》2015年02期
